レーザー再生増幅Ti:Sapphireレーザー Spectra-Physics社 TOPAS。Hurricaneとの組み合わせで、475-2600nmの発振可。 EKSPLA社 PL2143B。基本波1064nm、パルス幅20ps、出力80mJ。 SHG, THG, FHGも使用可能。ピコ~ナノ秒領域での過渡吸収測定の光源。 顕微鏡関連原子間力顕微鏡(AFM) Back to page top 膜表面の観察や、SNOMプローブの評価に 分光装置シングルフォトン計数法による蛍光の時間分解測定。 Ultrafast Systems社 Helios。CCDとInGaAs検出器の併用により広い観測波長範囲450-1600nmが特長。観測時間範囲0-3.3ns、検出可能吸光度変化~0.0002。 Xeランプをプローブ光源とした過渡分光システム。 光電子増倍管、InAs検出器の併用により広い観測波長範囲300-3000nmが特長。 安定化ハロゲンランプをプローブ光源、窒素-色素レーザーを励起光源とした過渡分光システム。 SiおよびInGaAsフォトダイオード検出器の併用により広い観測波長範囲250-1600nmが特長。時間ゲート型アンプシステム(Costronics社)の使用により~0.000001の吸光度変化を検出可能。 蛍光・リン光スペクトルの測定。2台のうち、1台は近赤外領域までのスペクトル測定が可能。 日立製作所社 U-3500。観測波長186-3200nm。 島津製作所社 UV-1800。 観測波長190-1100nm。 島津製作所社 MultiSpec-1500。マルチチャンネル検出器による瞬時測光。観測波長190-800nm。 ソーラーシミュレータ 分光された単色光を試料に照射する光源 薄膜作製と評価水面上に展開した単分子膜を固体基板上に転写することで、ナノメートルスケールの多層膜を作製(Langmuir-Blodgett法) 2種の高分子間にはたらくクーロン相互作用や電荷移動相互作用を利用して、ナノメートルスケールの多層膜を簡便に作製。 薄膜作製のための無塵環境 金属の蒸着膜を作製。2台。 作製した機能性超薄膜の電気的特性を評価 高分子の電気伝導度や、太陽電池のI-V特性評価 シリコンウェハ、ITO、石英など基板表面をオゾンにより洗浄 蒸留、イオン交換、有機物除去によって超純水を作製する装置 半導体微粒子を基板上に焼結 KIYON社 KK-011AS。循環精製装置内蔵、酸素濃度<1ppm、水分<1ppm。蒸着装置と接続。高分子太陽電池などを作製。 10~100 nmオーダーの薄膜を簡便に作製。 |