レーザー


再生増幅Ti:Sapphireレーザー
  • Spectra-Physics社 Hurricane。基本波800nm、パルス幅100fs、出力1mJ。SHG使用可。フェムト秒の過渡吸収測定の光源。

  • 自動波長可変OPA
    Spectra-Physics社 TOPAS。Hurricaneとの組み合わせで、475-2600nmの発振可。

  • ピコ秒Nd:YAG レーザー
    EKSPLA社 PL2143B。基本波1064nm、パルス幅20ps、出力80mJ。 SHG, THG, FHGも使用可能。ピコ~ナノ秒領域での過渡吸収測定の光源。

  • 窒素-色素レーザー
  • Photon Technology International社 GL-3300、GL-301。窒素レーザー 基本波337nm、パルス幅1ns、出力1.45mJ。色素レーザー 波長可変360-990nm、パルス幅0.8ns、出力数百μJ。

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    顕微鏡関連

    原子間力顕微鏡(AFM)
  • 試料表面の凹凸をオングストロームレベルで測定。

  • 走査電子顕微鏡(SEM)
    膜表面の観察や、SNOMプローブの評価に


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    分光装置


  • 時間相関単一光子計数装置
    シングルフォトン計数法による蛍光の時間分解測定。

  • 高感度フェムト秒ポンプ-プローブ分光計
    Ultrafast Systems社 Helios。CCDとInGaAs検出器の併用により広い観測波長範囲450-1600nmが特長。観測時間範囲0-3.3ns、検出可能吸光度変化~0.0002。

  • ナノ秒過渡吸収測定装置
    Xeランプをプローブ光源とした過渡分光システム。
    光電子増倍管、InAs検出器の併用により広い観測波長範囲300-3000nmが特長。

  • 高感度マイクロ秒過渡吸収測定装置
    安定化ハロゲンランプをプローブ光源、窒素-色素レーザーを励起光源とした過渡分光システム。 SiおよびInGaAsフォトダイオード検出器の併用により広い観測波長範囲250-1600nmが特長。時間ゲート型アンプシステム(Costronics社)の使用により~0.000001の吸光度変化を検出可能。

  • 蛍光分光光度計
    蛍光・リン光スペクトルの測定。2台のうち、1台は近赤外領域までのスペクトル測定が可能。

  • 紫外可視吸収分光計 3台
    日立製作所社 U-3500。観測波長186-3200nm。
    島津製作所社 UV-1800。 観測波長190-1100nm。
    島津製作所社 MultiSpec-1500。マルチチャンネル検出器による瞬時測光。観測波長190-800nm。

  • ソーラーシミュレータ
  • 太陽光と同じ特性を持つ光を発生。太陽電池の特性評価に。

  • 高輝度分光光源
    分光された単色光を試料に照射する光源

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    薄膜作製と評価

  • LB膜作製装置
    水面上に展開した単分子膜を固体基板上に転写することで、ナノメートルスケールの多層膜を作製(Langmuir-Blodgett法)

  • 交互吸着膜作製装置
    2種の高分子間にはたらくクーロン相互作用や電荷移動相互作用を利用して、ナノメートルスケールの多層膜を簡便に作製。

  • クリーンルーム/ベンチ
    薄膜作製のための無塵環境

  • 真空蒸着装置
    金属の蒸着膜を作製。2台。

  • 電気化学測定装置
    作製した機能性超薄膜の電気的特性を評価

  • エレクトロメーター
    高分子の電気伝導度や、太陽電池のI-V特性評価

  • UVオゾンクリーナー
    シリコンウェハ、ITO、石英など基板表面をオゾンにより洗浄

  • 超純水作製装置
    蒸留、イオン交換、有機物除去によって超純水を作製する装置

  • 電気炉
    半導体微粒子を基板上に焼結

  • グローブボックス
    KIYON社 KK-011AS。循環精製装置内蔵、酸素濃度<1ppm、水分<1ppm。蒸着装置と接続。高分子太陽電池などを作製。

  • スピンコーター
    10~100 nmオーダーの薄膜を簡便に作製。

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