再生増幅Ti:Sapphireレーザー

Spectra-Physics社 Hurricane。基本波800nm、パルス幅100fs、出力1mJ。SHG使用可。フェムト秒の過渡吸収測定の光源。

自動波長可変OPA
Spectra-Physics社 TOPAS。Hurricaneとの組み合わせで、475-2600nmの発振可。

ピコ秒Nd:YAG レーザー
EKSPLA社 PL2143B。基本波1064nm、パルス幅20ps、出力80mJ。 SHG, THG, FHGも使用可能。ピコ～ナノ秒領域での過渡吸収測定の光源。

窒素-色素レーザー

Photon Technology International社 GL-3300、GL-301。窒素レーザー　基本波337nm、パルス幅1ns、出力1.45mJ。色素レーザー　波長可変360-990nm、パルス幅0.8ns、出力数百μJ。

原子間力顕微鏡（AFM）

試料表面の凹凸をオングストロームレベルで測定。

走査電子顕微鏡（SEM）
膜表面の観察や、SNOMプローブの評価に

時間相関単一光子計数装置
シングルフォトン計数法による蛍光の時間分解測定。

高感度フェムト秒ポンプ-プローブ分光計
Ultrafast Systems社 Helios。CCDとInGaAs検出器の併用により広い観測波長範囲450-1600nmが特長。観測時間範囲0-3.3ns、検出可能吸光度変化～0.0002。

ナノ秒過渡吸収測定装置
Xeランプをプローブ光源とした過渡分光システム。
光電子増倍管、InAs検出器の併用により広い観測波長範囲300-3000nmが特長。

高感度マイクロ秒過渡吸収測定装置
安定化ハロゲンランプをプローブ光源、窒素－色素レーザーを励起光源とした過渡分光システム。 SiおよびInGaAsフォトダイオード検出器の併用により広い観測波長範囲250-1600nmが特長。時間ゲート型アンプシステム(Costronics社）の使用により～0.000001の吸光度変化を検出可能。

蛍光分光光度計
蛍光・リン光スペクトルの測定。2台のうち、1台は近赤外領域までのスペクトル測定が可能。

紫外可視吸収分光計　3台
日立製作所社 U-3500。観測波長186-3200nm。
島津製作所社 UV-1800。 観測波長190-1100nm。
島津製作所社 MultiSpec-1500。マルチチャンネル検出器による瞬時測光。観測波長190-800nm。

ソーラーシミュレータ

太陽光と同じ特性を持つ光を発生。太陽電池の特性評価に。

高輝度分光光源
分光された単色光を試料に照射する光源

LB膜作製装置
水面上に展開した単分子膜を固体基板上に転写することで、ナノメートルスケールの多層膜を作製（Langmuir-Blodgett法）

交互吸着膜作製装置
2種の高分子間にはたらくクーロン相互作用や電荷移動相互作用を利用して、ナノメートルスケールの多層膜を簡便に作製。

クリーンルーム／ベンチ
薄膜作製のための無塵環境

真空蒸着装置
金属の蒸着膜を作製。2台。

電気化学測定装置
作製した機能性超薄膜の電気的特性を評価

エレクトロメーター
高分子の電気伝導度や、太陽電池のI-V特性評価

UVオゾンクリーナー
シリコンウェハ、ITO、石英など基板表面をオゾンにより洗浄

超純水作製装置
蒸留、イオン交換、有機物除去によって超純水を作製する装置

電気炉
半導体微粒子を基板上に焼結

グローブボックス
KIYON社 KK-011AS。循環精製装置内蔵、酸素濃度<1ppm、水分<1ppm。蒸着装置と接続。高分子太陽電池などを作製。

スピンコーター
10～100 nmオーダーの薄膜を簡便に作製。